真空室和部件的內(nèi)表面是在高真空和超高真空下實現(xiàn)工作壓力的重要因素。必須在該條件下進行加工，以*小化有效表面，并產(chǎn)生具有*小解吸率的表面。

真空室和部件的表面往往是在焊接和機械加工后經(jīng)過精細玻璃珠噴砂的。具有限定直徑的高壓玻璃珠被吹到表面上。密封面不能被噴砂，所以在噴砂過程中要將其蓋住。這個過程對表面僅密封，使表面**齊平，去除近表面層，如色斑，并產(chǎn)生裝飾性的外觀。要噴砂的表面必須清潔、無油脂，砂礫介質(zhì)必須定期更換，特別是在改變材料類別時，如鐵素體何奧氏體不銹鋼。

01研磨

用于消除宏觀粗糙度，使其無氧化皮、水垢或劃痕。這應該在清潔、無油、無油脂的表面上進行，并且磨料不應被加工到表面里。根據(jù)初始粗糙度和要去除的層厚度，應該采用越來越細的顆粒，使用橫磨方法（即：交替研磨方向）在幾個步驟中進行研磨。研磨通常是隨后表面處理（如電拋光）的準備步驟。研磨產(chǎn)生視覺上統(tǒng)一的印象。憑借已經(jīng)相對光滑、酸洗的表面，研磨可以產(chǎn)生更多的裝飾效果，而且還可以增大表面積。

02刷光

用于焊縫的后處理。所用刷子必須由不銹鋼制成，并且不得受到其他物質(zhì)的污染，保證無異物被帶到表面上。這同樣適用于拋光。拋光或磨損可能不增加到表面上和/或然后必須wan全去除。有效的表面積不得通過微觀粗糙來增加。

03酸洗

是清潔表面的一種有效方法。雜質(zhì)和大約1至2μm厚的表層被溶解。相關酸洗參數(shù)，如染色劑濃度、溫度或酸洗時間，必須嚴格遵守，以避免過度酸洗。酸洗后，必須集中沖洗，以去除酸洗液的所有殘余物。酸洗過程只能略微改變表面粗糙度。

04 電拋光

是金屬選擇性陽極通過使用DC電源溶解到電解液中。在這種情況下，通常去除表面12至15μm的顆粒，以產(chǎn)生結晶的純凈表面。為均勻地去除表面，必須頻繁地制造適合于部件的電極。這使得過程變得復雜起來。此外，CF密封面必須被覆蓋，因為作為邊緣，電場強度局部增大，從而導致材料去除增加。在UHV用戶中，該過程是有爭議的。對氫進入表面或通過電解液殘余物進入表面上進行了討論。如酸洗一樣，在電拋光后，必須che底沖洗部件。此外，在這之后應進行泄漏測試，因為焊縫區(qū)域的物質(zhì)被去除了。根據(jù)先前條件，電拋光可以減少一半的表面粗糙度。

通常情況下，根據(jù)實驗或過程，在用戶和設計師之間的對話中設計腔室。單獨定制腔室的另一選擇是標準的真空室。這些是預配置的基礎結構，可通過自由可選的端口予以補充。與wan全定制的真空室相比，它們更加快速、實惠。